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大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于大连管道疏通清洗机选哪家的问题，于是小编就整理了1个相关介绍大连管道疏通清洗机选哪家的解答，让我们一起看看吧。

1. 我国能生产光刻机吗？

我国能生产光刻机吗？

芯片生产需要蚀刻机和光刻机。我国生产的蚀刻机，加工精度为5nm，是世界主流产品。我国能生产光刻机，但是我国目前生产的光刻机，其精度仅为14nm，远不如荷兰生产的光刻机精度高，荷兰产光刻机精度为7nm。

据说目前，荷兰已研制出精度为5nm的光刻机。而我国研制的精度为7nm的光刻机，还在进行最后测试，最快也要到明年上半年，才能投产上市。按工业科技的演进计算，我国光刻机技术，至少比荷兰落后三年，因为荷兰7nm光刻机，三年前就开始对全球发售了。

我国生产的光刻机精度不如荷兰的光刻机，也就意味着用我国光刻机生产芯片，产出的合格产品率，偏低。这也就意味着用我国光刻机，生产出的合格芯片，其单位成本，要远高于用荷兰光刻机生产出的合格芯片。

由于用我国光刻机生产出的合格芯片，其单位成本较高，而我国产芯片的成本，最终会摊到下游产成品中去，因此会直接拉高我国终端产品的单位成本。产品成本被拉高，产品售价也将随之上涨。产品售价上涨，将直接削弱我国相关产品的市场竞争力。

芯片的产能丶性能丶单位生产成本，将直接关乎5G技术应用与推广。5G技术对经济发展有巨大的拉动作用。因此，尽快提高我国生产的光刻机精度，对我国经济发展极具意义。

光刻机又叫做:掩膜对准曝光系统，光刻系统等，简单的来说光刻就是将硅圆表面涂上光刻胶，通过光将掩膜版上复杂的电路结构***到光刻胶上面的过程，我国目前能生产光刻机的主要有以下几家:

1. 上海微电子装备有限公司，已经量产90nm光刻机，其65nm光刻机商用量产也已经提上日程
2. 中子科技集第四十五研究所光电已经量产的是1500nm光刻机
3. 先腾光电科技已经量产800nm光刻机
4. 无锡影速光电科技目前已经量产200nm光刻机
   

谈到光刻机就不得不谈到ASML，这个光刻机行业说一不二的庞然大物，只有它能生产7nm级别的光刻机，每台7nm制程光刻机售价1.2亿美元，17年产量只有12台，预计今年达到18台，至于其“一视同仁”的态度，中国不知道哪一年能买到一台，中国光刻机企业在其面前就是一个小孩。

很多人都有疑问中国在晶圆材料，蚀刻机，e—beam，掩膜，标靶，封装等领域都有了巨大突的突破，华微电子的芯片材料和中微半导体科技的蚀刻机都是世界一流，为什么单单光刻机攻克不了。

第一没有足够的技术和人才积累，半导体行业在我国起步晚，在国外的技术封锁之下，技术底子薄，尤其在机械精度方面差距甚远，高端光刻机需要做到两个平台同时运动，而差距不能超过2nm，这而一根头发的宽度是60000nm。

第二没有顶尖的零件，ASML的零件全是各行业的龙头企业提供，镜头来自德国蔡司，光源来自没过cymer，机器组装来自韩国和台湾，都是各行业最顶尖的存在，而中国什么都得自己来。

第三没有足够的资金，ASML每年的研究开发费用都是以十亿美元为单位，中国企业虽然在国家扶持之下，有了更多的研发资金，但是显然还达不到这个水平。

中国芯片行业的进步是毋庸置疑，同时也要直面一些方面巨大的差距，发扬中华民族吃苦耐劳的民族精神，通过自己的努力把路一步一步走出来，因为落后只能被欺负。

我们国家可以生产，最高可以生产大概是60纳米左右的，对32纳米来说，不知道要等几年；实验室可以流片多少纳米未知，全球来说，ASML是欧洲跟美洲几十个国家企业一起出资供养的，原来日本可以生产，后来投入太大，被终止了，现在能适应市场的就只有ASML生产的光刻机，其它公司生产出来也没什么用的；在2018年今年7纳米光刻机就有了，2020年就是4纳米，2022年就有2纳米，这些都是生产线的***，光刻机的进度是在生产线之前；最大的问题是ASML的研发速度这么快，是大量资金跟***堆出来的；我国向追上去，很难，除非有其它特别的突破，不然先进制程永远无法民用。

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